申込み受付中の説明会
06/26(火) 13:25 物質・材料研究機構 新技術説明会 ~ 15:55
06/28(木) 10:25 東京農工大学 新技術説明会 ~ 15:55
07/03(火) 13:00 歯科領域 新技術説明会 ~ 15:55
07/05(木) 13:20 芝浦工業大学 新技術説明会 ~ 15:55
07/10(火) 13:30 首都大学東京 新技術説明会 ~ 15:55
07/12(木) 09:55 材料 新技術説明会 ~ 11:55
07/12(木) 13:00 情報・計測 新技術説明会 ~ 15:00
07/24(火) 12:55 筑波大学 新技術説明会 ~ 15:55
07/26(木) 12:55 慶應義塾大学 新技術説明会 ~ 15:55

開催スケジュール
7/26(木)pm
慶應大学 新技術説明会 
7/31(火)
旧CIC東京 新技術説明会 
8/2(木)pm
岩手県立大学 新技術説明会 
8/7(火)
京都工芸繊維大学 新技術説明会
8/9(木)
信州産学官 新技術説明会
8/16(木)
広島県 新技術説明会 
8/21(火)
神戸大学 新技術説明会 
8/23(木)
金沢大学 新技術説明会
8/28(火)pm
金沢工業大学 新技術説明会
9/4(火)
福井大学 新技術説明会 
9/6(木)
ライフイノベーション 新技術説明会 
9/11(火)
東洋・上智・中央 新技術説明会
9/13(木)pm
富山大学 新技術説明会
9/20(木)
産業技術総合研究所 新技術説明会 
 
9/27(木)am
福島大学 新技術説明会
9/27(木)pm
奈良女子大学 新技術説明会

材料・ICT 新技術説明会
【日時】2017年09月26日(火) 9:55~12:25【会場】JST東京本部別館1Fホール(東京・市ケ谷)
【参加費】無料
【主催】科学技術振興機構、茨城大学、宇都宮大学、群馬大学、埼玉大学
【後援】特許庁

発表内容詳細

10:00~10:25 材料
1) 液晶分子トリフェニレンの新規化学修飾技術と金属界面修飾への展開

埼玉大学 大学院理工学研究科 物質科学部門 助教 古川 俊輔
http://www.chem.saitama-u.ac.jp/msaito-lab/index.html

【新技術の概要】

本技術は、液晶性分子の代表格であるヘキサアルコキシトリフェニレンの炭素骨格に、直接官能基を導入できる新規反応を根幹とした材料開発技術である。導入する元素・置換基により、材料の酸化還元特性、色、双極子モーメントの向き・大きさ、電荷輸送性といった基礎物性に抜本的変化を与えることが出来る。

【従来技術・競合技術との比較】

従来までのトリフェニレン液晶の物性制御は、主に周縁部置換基を変更することで達成され、熱相転移や配向制御に特化した技術が発達した。本技術は、トリフェニレン主骨格に元素・置換を導入できるため、分子の電子状態そのものを変化させることができる。一例として、従来分子では達成困難な、12 Dという大きな面外双極子をもつ分子の合成を達成している。

【新技術の特徴】

・ヘキサアルコキシトリフェニレンの新規誘導化反応(新規化合物:ヘテラスマネン類の合成)
・芳香族化合物に表裏の二面性を付与できる(高い面外異方性)
・大きな極性を活かした有機/金属界面制御,電解応答性材料への展開を期待

【想定される用途】

・金属の仕事関数制御
・強誘電材料
・液晶性電荷輸送材料

10:30~10:55 材料
2) フルオラス溶媒中で利用可能な含フッ素クラウンエーテルを簡単にかつ安全に合成する方法

茨城大学 工学部 生体分子機能工学科 准教授 福元 博基
http://functionalmaterial.biochem.ibaraki.ac.jp/index.html

【新技術の概要】

本新技術では、水相ーフルオラス相での有機合成等に使用可能な含フッ素クラウンエーテルの合成を、半導体のエッチングとして用いられている入手容易な環状ペルフルオロアルケンと安価なグリコールを用いるだけで達成できる。

【従来技術・競合技術との比較】

従来のクラウンエーテルのフッ素化技術は毒性の高いフッ素化剤を高温で使用するため、高度なテクニックが必要である。また、フッ素材料が限定されるため、目的物の合成に達するまで多段階を要する。本新技術では、低毒性で入手可能かつ取扱いが容易なフッ素源としてオクタフルオロシクロペンテンを用いることにより、温和な条件(室温以下)での含フッ素クラウンエーテルの一段階合成を可能にした。

【新技術の特徴】

・温和な条件(室温以下)でクラウンエーテルへのフッ素導入が可能
・毒性の低いかつ入手容易なフッ素源を使用
・合成経路の短縮化(一段階で合成可能)

【想定される用途】

・フッ素系溶媒ー水系で行う有機合成の相間移動触媒
・フッ素系もしくは有機溶媒に含まれる金属イオンの捕捉剤・検出試薬

11:00~11:25 情報
3) 拡張現実感(AR)を用いた次世代ユーザーインターフェース

埼玉大学 大学院理工学研究科 数理電子情報部門 准教授 小室 孝
http://www.is.ics.saitama-u.ac.jp/index.html

【新技術の概要】

現在のコンピュータは、表示や操作が二次元平面上に限られています。これを三次元空間に拡張することで、広い操作空間や実体感のある操作を実現します。モバイルディスプレイがあたかも透明なガラス板のように透けて見える「シースルーモバイルARシステム」などを開発しています。

【従来技術・競合技術との比較】

従来のAR技術は主に情報提示に重きが置かれていましたが、我々はコンピュータの操作に利用することを目的としています。これらのシステムを実現するためには、カメラで撮影した画像から人の顔や手を認識したりする技術や、視点を変えて映像を提示したりする技術が必要となります。

【新技術の特徴】

・スマートフォンやタブレットなどの小型端末で動作
・自身の手で仮想物体を触って操作できるため、直感的な操作が可能
・デバイス背面の広い空間を用いた操作が可能

【想定される用途】

・ソフトウェアキーボードの多指を用いた入力
・仮想物体とのインタラクション(ゲーム等アミューズメント)
・インターネットショッピングにおける製品の質感提示

11:30~11:55 情報
4) 偏光カメラによる高精度可視化技術

宇都宮大学 大学院工学研究科 先端光工学専攻 教授 大谷 幸利
http://www.otanilab.org/

【新技術の概要】

本技術は、精密加工や製産工程においてマイクロメートルからナノメートルオーダの傷や欠陥検出、さらには内部の応力分を高精度に可視化するシステムを提供する。

【従来技術・競合技術との比較】

従来技術は、可視化のために複数の画像を検出しなければならず、リアルタイム計測が困難であったり、できても精度に問題があったが、新技術においては、偏光カメラの導入とそのキャリブレーション技術の導入により高精度に可視化ができるようになった。

【新技術の特徴】

・欠陥,キズ等の可視化技術
・内部応力の可視化技術
・リアルタイム計測と高精度化のためのキャリブレーション技術

【想定される用途】

・キズ・欠陥の可視化
・内部情報の可視化
・動的偏光解析

【関連情報】

・展示品あり

12:00~12:25 通信
5) 時変の極めて高騒音な環境においても高品質な音声を確保する技術

埼玉大学 大学院理工学研究科 情報システム工学コース 教授 島村 徹也
http://www.sie.ics.saitama-u.ac.jp

【新技術の概要】

現在の音声通信は、駅のプラットフォームや交差点などの高雑音環境下における雑音抑制技術が未だ確立されておりません。安全性や機密性の確保、およびスムーズな音声通信の実現に向け、高騒音環境下での音質改善が望まれています。我々は、そのような劣悪環境下でも高品質な音声を確保する雑音抑圧技術を開発しました。

【従来技術・競合技術との比較】

この技術は、雑音の統計的性質を効率的に解析することで、高精度に音声を抽出することができ、特に従来困難とされていた時変雑音に効果的に働きます。音声通信のみならず、音声認識や話者認識にも活用できる総合的な音声処理システムの実現が可能です。

【新技術の特徴】

・時変雑音に効果的に機能します
・音声認識や話者認識への応用が可能です

【想定される用途】

・音を介した各種マン-マシンインターフェース
・音以外への雑音除去

【関連情報】

・デモあり