千葉工業大学 新技術説明会
日時：2018年02月20日(火) 10:00～11:55
会場：JST東京本部別館1Fホール（東京・市ケ谷）
参加費：無料
主催：科学技術振興機構、千葉工業大学
後援：特許庁
発表内容一覧
発表内容詳細
- 材料
1）斜入射スパッタリング法による微細構造化薄膜の形成技術
千葉工業大学 工学部 先端材料工学科 教授 井上 泰志
新技術の概要
本技術は、従来、蒸着法のような高い真空環境でのみ利用されてきた斜入射堆積法を、反応性スパッタリングプロセスに適用し、酸化物・窒化物などの化合物薄膜において、小腸内壁細胞における微絨毛構造のような、離散的なナノ柱状構造を容易に形成するものである。
従来技術・競合技術との比較
サブミクロンオーダーの微細構造を形成するには、従来、リソグラフィ技術が必要とされてきたが、非常にコストが高く、適用可能な材料も限られる。それに対して本技術は、自己組織的に微細構造が構築されるため、低コストかつ材料を選ばない点で優位性がある。一方で、構造制御性において多くの課題が残される。
新技術の特徴
・微絨毛状の微細構造を低コストで形成可能である
・さまざまな化合物材料に適用可能である
・既存のスパッタリング装置において実現可能である
想定される用途
・吸着誘起型エレクトロクロミック材料
・表面積の増大に対応して感度が変化するセンサ材料
・フォトニック結晶材料
- 製造技術
2）大気圧プラズマを活用した物質合成・環境保全技術
千葉工業大学 工学部 応用化学科 教授 尾上 薫
新技術の概要
本技術は、大気圧下で気相にエネルギーを付与して生成したプラズマを気相、液相または固相と接触させ、プラズマが有するエネルギーを利用して従来とは機構が異なる新規な化学反応を創成することで物質合成および環境保全に寄与するものである。
従来技術・競合技術との比較
物質合成法に関する従来技術として液相での晶析操作が挙げられる。液相晶析においては、原料の種類、添加方法、成分濃度、pH、温度などを精密に制御する必要がある。一方、大気圧プラズマ法では原料を高温で分解可能であり、選択範囲が大幅に広がる。環境保全技術に関しては気相原料を用いたオンサイトでの大気浄化が可能である。
新技術の特徴
・物質合成および環境保全に要する原料の多様化
・プラズマ場への微細液滴の供給による短時間晶析
・酸素種活性の原料として水を活用
想定される用途
・液相原料が不用な条件下での室内大気環境の保全
・液相反応において使用する薬品の種類・濃度の低減
・水の分解で生じたヒドロキシルラジカルの酸化による洗浄・殺菌
- 材料
3）技術開発を加速させる低温プラズマの解析及び可視化技術
千葉工業大学 工学部 電気電子工学科 教授 小田 昭紀
新技術の概要
本技術は、プラズマテレビや蛍光灯、半導体プロセス、成膜などの幅広く利用されている低温プラズマの特徴を、短時間かつ高精度に解析して可視化する技術である。本技術を企業側の研究開発に適用することによって、開発に必要な時間を大幅に短縮でき、各種プラズマ応用技術の開発スピードの加速が期待できるものである。
従来技術・競合技術との比較
企業側の望む情報（例えば、光源であれば光出力、オゾン生成器であればオゾン濃度やオゾン生成効率など）を合理的な時間で詳細に提供可能である。本技術の適用することで、各種プラズマ応用技術の開発スピードの加速が期待される。
新技術の特徴
・各種応用に応じた様々なガス下での低温プラズマの特徴を短時間で高精度に解析することが可能。
・企業側の望む情報を詳細に提供可能。
想定される用途
・各種プラズマ応用技術（例えば、プラズマ成膜技術、産業用紫外光源、オゾン生成など）の研究開発への適用
・各種プラズマ応用技術のための低温プラズマの特性（特徴）の可視化
- 環境
4）準安定励起粒子の失活レート係数の決定
千葉工業大学 工学部 教育センター 教授 鈴木 進
新技術の概要
放電プラズマを発生させ大気汚染物質を分解除去するための研究が行われているが、大気の主成分である窒素の反応活性種の失活レート係数を決定することができる。このデータを企業側の研究開発に適用することによって、シミュレーション用数値データを提供することができる。
従来技術・競合技術との比較
失活レート係数は，分光測定のような精密な測定機が必要であるか，本技術ではそのような大がかりな装置を必要としない利点がある。故に，企業側の望む情報をスピーディーに得ることが可能である。
新技術の特徴
・非分光法による環境問題に関連した実用的な失活レート係数の提供が可能。
・放電プラズマによる大気汚染物質除去技術の発展に貢献が可能。
想定される用途
・放電プラズマ応用技術のためのシミュレーションへの基礎データの提供
・各種反応過程の推測を可能にする
お問い合わせ
連携・ライセンスについて
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