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JST戦略的創造研究推進事業② 新技術説明会【オンライン開催】

日時:2026年12月11日(金) 09:55~13:55

会場:オンライン開催

参加費:無料

主催:科学技術振興機構

協力:株式会社東京大学TLO

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発表内容詳細

  • 09:55~10:00

開会挨拶

科学技術振興機構 戦略研究推進部 企画・評価課 調査役 内田 信裕

  • 10:00~10:25
  • 創薬

1)病理画像から未測定の転写物の空間分布を推定

東京大学 大学院新領域創成科学研究科 メディカル情報生命専攻 特任准教授 小井土 大

新技術の概要

空間発現解析は実測できる転写物の種類と数に制約があり、費用も高額です。本技術は、H&E染色画像から抽出した形態の特徴量と、対象転写物周辺のDNA配列から抽出した特徴量とを統合し、組織内の位置ごとの転写物量を推定します。実験的に未測定の転写物についても、病理画像から発現の空間分布を推定できます。

従来技術・競合技術との比較

病理画像のみを用いる従来の空間発現推定法は、実測した転写物しか予測できません。本技術は転写物周辺のDNA配列パターンを統合した独自のマルチモーダル機械学習モデルにより、実測遺伝子に加えて未測定の転写物、そして変異の影響まで推定対象とします。

新技術の特徴

・病理画像だけでは予測できない未測定の転写物を、その周辺の参照ゲノム配列を手がかりに推定します。対象はmRNAに限定されず、個人のゲノム情報を必要としません。
・DNA配列だけでは反映できない細胞の形態や組織構造を取り込むため、同じ転写物でも組織内の位置ごとに異なる発現を推定できます。
・入力するDNA配列を書き換えることで、配列の違いが発現に与える影響を推定できます。通常は多数の個体のゲノム情報がなければ得られない情報です。

想定される用途

・実測結果の拡張:実測した空間発現データからモデルを学習し、同一組織の他の切片や、未測定転写物について空間分布を推定します。受託解析などにおける付加価値の向上につながります。
・蓄積画像への適用:空間発現データを持たない過去のデジタルスライドに学習済モデルを適用し、実験条件を横断して、着目する転写物が高発現する条件を推定します。

  • 10:30~10:55
  • 材料

2)オリゴ糖からつくる熱成形・再成形可能なバイオベースプラスチック

北海道大学 大学院工学研究院 応用化学部門 教授 磯野 拓也

新技術の概要

多糖を低分子化して得られる多様なオリゴ糖を材料骨格とし、化学修飾と動的共有結合による架橋を組み合わせることで、熱成形・再成形可能なバイオベースプラスチックを開発した。オリゴ糖の種類や架橋構造を変えることで、硬質から高伸長まで幅広い物性を設計できる。

従来技術・競合技術との比較

セルロースエステルなどの多糖誘導体や糖質系ビトリマーが知られるが、本技術は高分子量多糖ではなくオリゴ糖を材料設計単位として利用する。オリゴ糖の種類や架橋構造を独立に調整でき、熱成形・再成形性と幅広い力学物性を両立できる。

新技術の特徴

・多様なオリゴ糖をプラスチックの材料骨格として利用できる汎用的な材料設計技術
・動的共有結合により、架橋材料でありながら加熱による成形・再成形が可能
・オリゴ糖の種類や架橋構造の組合せにより、硬質から高伸長まで幅広い力学物性を設計可能

想定される用途

・容器・ケース・日用品等のバイオベース成形部材
・再成形・再利用が可能な循環型樹脂材料
・天然繊維複合材料のマトリックス樹脂

関連情報

サンプルあり

  • 11:00~11:25
  • 材料

3)大きなファラデー効果および大きなひずみゲージ特性を有するナノグラニュラー材料

電磁材料研究所 研究開発事業部 新機能材料創生部門 研究主監 小林 伸聖

新技術の概要

ナノグラニュラー材料は、微細な磁性金属粒子がセラミックスマトリックスに分散したナノメーターサイズの微細構造を有し、その微細構造に起因したユニークな機能性を発揮します。今回は、それらの機能性の中から、光磁気特性とゲージ特性について紹介します。

従来技術・競合技術との比較

ナノグラニュラー材料は、光通信波長(1,550nm)において、実用材料であるビスマスガーネットに比べて最大40倍の大きさのファラデー回転角を示します。また、ニッケル-クロム合金などの金属ゲージ箔と比べて10~20倍のゲージ率を示し、素子の微細化・集積化さらには省電力化に対応します。

新技術の特徴

・光通信波長帯での大きなファラデー回転角
・金属ゲージ材料の10階以上の大きなゲージ率
・マイクロメーターサイズの小型化および集積化が可能

想定される用途

・大きなファラデー効果を用いた非接触磁気センサー
・光通信集積アイソレーター
・高感度・超小型ゲージ素子

関連情報

サンプルあり
展示品あり

  • 11:30~11:55
  • 環境

4)シアニドの回収・再利用を志向した小分子メディエーター

北海道大学 大学院工学研究院 応用化学部門 助教 百合野 大雅

新技術の概要

高毒性のシアン系廃液からシアニドを選択的に回収・固定化する小分子として、官能基を有するケトンを開発した。また、得られたシアノヒドリンをシアニド源として用いた精密有機合成反応により、ニトリルが得られる手法を開発した。これにより、これまで化学的処理によって二酸化炭素と窒素に分解していた廃シアニドを取り出し、有機合成の反応剤として活用する環境調和型物質変換を実現した。

従来技術・競合技術との比較

シアニドはその猛毒性のため、塩基性水溶液としての保管が義務付けられている。最終的には、アルカリ塩素法などにより、二酸化炭素と窒素に分解されている。これは、シアニドの原料となる低級アルカンとアンモニアを燃焼しているのと等価である。また、イオン交換樹脂でシアニドを廃液から除去する手法も存在するが、シアニドの再利用には至っていない。

新技術の特徴

・毒物であるシアニドを安定化合物として回収、固定化
・二酸化炭素や窒素を排出しない環境調和型の物質循環
・回収したシアニドのアップサイクルに基づくケミカルリサイクル

想定される用途

・廃液中のシアニドの選択的回収(廃液処理)
・狭雑イオン溶液からのシアニドの固定化(資源循環)
・新規シアノ化剤(有機合成)

関連情報

サンプルあり

  • 13:00~13:25
  • 材料

5)高分子微粒子を鍵とした革新的資源循環技術

岡山大学 学術研究院 環境生命自然科学学域 卓越教授 鈴木 大介

新技術の概要

高分子微粒子を集積して成形体をつくり、使用後は温和な刺激で単一微粒子まで分解して回収・再集積する。ポリマー鎖をモノマーまで分解しないため、物性劣化を抑えながら繰り返し利用できる。さらに微粒子・界面設計により、強靭性と分解性を用途に応じて調整できる。

従来技術・競合技術との比較

従来のマテリアルリサイクルでは、加熱・再成形の繰り返しにより物性が低下しやすい。ケミカルリサイクルでは、モノマーまで戻すため反応工程やエネルギーを要する。本技術は材料を単一微粒子まで分解して再集積することで、高分子鎖を保持したまま高品質な再利用を可能にする。

新技術の特徴

・単一微粒子まで分解・回収し、材料物性を保った再利用が可能
・モノマーまで分解せず、温和な条件で分解・再集積できる
・微粒子・界面設計により強靭性と分解性を用途ごとに調整可能

想定される用途

・フィルム・コーティング等の短期使用高分子製品
・カーボンブラック・顔料等を含む高分子複合材料
・高品質な再利用が求められるモビリティ・電気電子部材

  • 13:30~13:55
  • 材料

6)新概念が導く水平リサイクル可能なトポロジカルゴム材料

北海道大学 大学院工学研究院 応用化学部門 教授 佐藤 敏文

新技術の概要

単一成分からなる多環状の高分子材料が、架橋構造なしでゴム弾性・エラストマー性能を示すことを特徴とし、さらに水平リサイクル可能な材料に関する新技術である。また、低温や融点以上でもゴム弾性・エラストマー性能を発現することを特徴とする。

従来技術・競合技術との比較

従来の一般的なゴム材料は架橋構造を必要とすることから水平リサイクルが困難である。また、熱可塑性エラストマーは水平リサイクル可能であるが、相分離可能な複数成分からなるブロック共重合体が必要である。本材料は、非架橋の単一成分でゴム弾性・エラストマー性能を発現し、かつ、水平リサイクル可能であることを特徴とする。

新技術の特徴

・非架橋の単一成分材料でゴム弾性・エラストマー性能を発現
・水平リサイクル可能なゴム・エラストマー材料
・低温や融点以上でもゴム弾性・エラストマー性能を発現

想定される用途

・水平リサイクル可能なゴム・エラストマー材料
・低温や高温でも利用可能なゴム・エラストマー材料
・有機溶媒に可溶なゴム・エラストマー材料

関連情報

展示品あり

お問い合わせ

連携・ライセンスについて

科学技術振興機構 戦略研究推進部企画・評価課
TEL:03-3512-3523 
Mail:Erp-ir-seikatアットマークjst.go.jp

科学技術振興機構 戦略研究推進部(CREST)
TEL:03-3512-3531 
Mail:crestアットマークjst.go.jp

科学技術振興機構 戦略研究推進部(さきがけ)
TEL:03-3512-3526 
Mail:prestoアットマークjst.go.jp

科学技術振興機構 戦略研究推進部(ACT-X)
TEL:03-6380-9130 
Mail:act-xアットマークjst.go.jp

新技術説明会について

〒102-0076 東京都千代田区五番町7 K’s五番町

TEL:03-5214-7519

Mail:scettアットマークjst.go.jp

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