量子科学技術研究開発機構（ＱＳＴ） 新技術説明会【オンライン開催】
日時：2026年10月08日(木) 13:00～14:55
会場：オンライン開催
参加費：無料
主催：科学技術振興機構、量子科学技術研究開発機構
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発表内容一覧
発表内容詳細
- 13:00～13:25
- 機械
1）光ガイドを用いたテレオペレーションにおけるマニピュレータの位置決め性の向上
量子科学技術研究開発機構 那珂フュージョン科学技術研究所 炉工学基盤研究開発部
遠隔保守機器開発グループ 主幹技術員 伊藤 智之
新技術の概要
本技術はテレオペレーションにおいてマニピュレータとターゲットの位置関係の把握を容易にするものです。
マニピュレータ手先に、グリッパと並行のガイド光を射出する機器を取り付け、ターゲットには高低差の異なるマーカを設置します。ガイド光をターゲットに合わせることでグリッパがターゲットの相対位置の認識を容易にします。
従来技術・競合技術との比較
従来ではリーダーフォロワーアームを適用した接触力の検出や、センサ、画像計測、複眼による相対位置の認識を行っています。本手法では、操作員が二次元のカメラ映像から直接直感的に３次元の相対位置関係を認識することが可能となり、低コストでの位置調整が可能となります。
新技術の特徴
・光ガイドと立体マーカを適用することで単一カメラの映像内で３次元的な位置関係の認識を可能とする
想定される用途
・人が入れない環境での多様な遠隔作業
・遠隔でのドラフター内部での試料の取り扱い
- 13:30～13:55
- デバイス・装置
2）開口マスクで安定制御する高強度レーザ駆動粒子ビーム技術
量子科学技術研究開発機構 関西光量子科学研究所 光量子ビーム科学研究部
高強度場科学研究グループ 主幹研究員 中新 信彦
新技術の概要
本技術は、高強度レーザ光の一部を通す開口マスクを用いて、集光光学系（凹面鏡等）での集光位置やプロファイルを保ったまま照射角度のみを変化させる。これにより、高エネルギー電子等のレーザ駆動粒子ビームの出射方向を高精度かつ安定に制御できる。
従来技術・競合技術との比較
従来はミラーなどの光学素子の角度調整で伝搬方向を変えるため、集光位置やプロファイルが変化してしまいレーザ駆動粒子ビームの制御が困難だった。本技術は開口マスクの導入により集光品質や粒子ビームの安定性を高めると共に、その移動によってレーザ伝搬方向を制御し、粒子ビームの高精度な方向制御を実現する。
新技術の特徴
・開口マスクの横移動で、集光位置や強度分布を維持したまま高強度レーザとそれにより駆動される粒子ビーム方向を制御
・高強度レーザの裾成分を除去し、集光プロファイルと粒子ビームの安定性を向上
・簡便に高精度に出射方向を制御でき、標的への照射が可能
想定される用途
・小型自由電子レーザなどの小型高輝度光源への応用
・高速電子顕微鏡などの高時空間分解イメージング装置への応用
・粒子線治療装置など医療分野への利用
- 14:00～14:25
- エネルギー
3）磁性体による大型電子管の寄生発振の抑制技術
量子科学技術研究開発機構 那珂フュージョン科学技術研究所 炉工学基盤研究開発部
RF加熱開発グループ 主任研究員 新屋 貴浩
新技術の概要
大型電子管のコレクター部の外側(大気側)から磁性体の板を装着することで、コレクター内部で発生する寄生発振を抑制することができる技術です。コレクター部の寄生発振によって外部に漏れ出うる強力な電磁波ノイズは、大型電子管の制御システムを不安定化するリスクがあるため、避ける必要があります。本技術は、電子管をつくり直す必要がなく、低コストかつ外部から簡易的に実施可能なメリットがあります。
従来技術・競合技術との比較
例えば、ビームトンネルと呼ばれるジャイロトロンの内部機器では、窒化ケイ素の円筒を入れることでQ値を下げて、寄生発振を抑制しますが、電子ビームが衝突するコレクターでは適用できません。他にも、特殊な内部構造にしてQ値を下げる手法がありますが、これらは製造段階で施されている必要があり、本技術のように製造後の抑制ができません。
新技術の特徴
・大型電子管の寄生発振を抑制可能
・製造後の大型電子管にも適用可能
・低コスト
想定される用途
・ジャイロトロン
・クライストロン
- 14:30～14:55
- 材料
4）酸化物粒子の電気特性を単一工程・短時間で制御
量子科学技術研究開発機構 高崎量子技術基盤研究所 先端機能材料研究部
水素デバイスプロジェクト 上席研究員 田口 富嗣
新技術の概要
液中パルスレーザー照射により、金属酸化物粒子内へ異種元素と高密度の構造欠陥を単一工程で同時導入できる技術です。従来必要であった高温・多段階処理を不要とし、短時間で機能性材料を作製可能です。電気伝導度の大幅向上、バンドギャップの制御や多元素同時導入にも対応し、材料設計の自由度を大きく向上させます。
従来技術・競合技術との比較
従来の湿式法や焼成プロセスでは、異種元素導入に高温・長時間処理が必要でした。本技術は液中レーザー照射により、異種元素導入と高密度の欠陥形成を単一工程で同時達成し、処理時間を1/10程度まで短縮可能です。さらに電気伝導度は最大約2,000倍向上し、高機能材料の迅速作製が可能です。
新技術の特徴
・液中パルスレーザー照射により、異種元素導入と高密度の構造欠陥形成を同時に達成できるワンステップ法
・高温焼成や多段階処理を必要とせず、短時間で機能性材料の作製が可能
・多様な元素種や複数元素の同時導入が可能であり、電気特性や電子構造等の柔軟な制御が可能
想定される用途
・水分解や有機物分解等の光触媒・環境浄化材料
・ガスセンサー等のセンサー材料
・医療用ナノ粒子材料
関連情報
サンプルあり
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連携・ライセンスについて
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